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          石墨舟狀態對鍍膜均勻性的影響

          2020-08-29

          將新石墨舟及應用超出三年的舊石墨舟飽和狀態后開展PECVD表層的鍍膜,片間勻稱性差別如圖所示7所顯示。由圖7得知,新石墨舟表面平面度好,石墨舟片導電率一致,塑料薄膜分子結構能夠勻稱地沉積在硅片表面,片間勻稱性更優質。圖8為新石墨舟在應用周期時間內的片間勻稱性趨勢分析圖。

          新石墨舟飽和狀態后在沉積時仍有一部分等離子技術在石墨舟上面沉積,運作頻次低于三十次時,伴隨著運作頻次的提升,石墨舟上面沉積的等離子技術降低,片間勻稱性越佳。運作頻次超過三十次后,伴隨著應用頻次的提升,石墨舟片內腔與硅片觸碰邊沿處塑料薄膜增厚,靜電場反倒強大,產生大量的低溫等離子沉積,易出現不一樣水平的邊沿泛白狀況,造成 片間勻稱性多次下降。



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